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发明

一种用于半导体材料的金属离子清洗剂

2023-08-21 07:08:39 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202310548240.4
  • 公开（公告）日：2025-04-25
  • 公开（公告）号：CN116606704A
  • 申请人：安徽应友光电科技有限公司
摘要：本发明涉及半导体清洗技术领域，包括以下重量份的组分：表面活性剂10%‑16%；三乙醇胺0.1%‑0.2%；苯甲酸钠2%‑5%；磷酸盐4%‑8%；硅酸钠3%‑6%；氢氧化钠0.5%‑1%；油酸0.3%‑0.5%；油醇0.5%‑0.8%；乙醇0.6%‑1%；余量为水，本发明公开了一种用于半导体材料的金属离子清洗剂，本发明清洗剂形成混合均相体系，使得这个清洗剂去污去油能力强，通过清洗剂中多种物质的协同效应和互补效应，清洗后的零件表面光滑，渗透力腔，湿润性好，工艺周期短，化学试剂量小、清洗液浓度低容易冲洗干净，环保性较高。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116606704 A (43)申请公布日 2023.08.18 (21)申请号 202310548240.4 C11D 3/04 (2006.01) C11D 3/60 (2006.01) (22)申请日 2023.05.16 C11D 1/22 (2006.01) (71)申请人 安徽应友光电科技有限公司 C11D 1/66 (2006.01) 地址 239500 安徽省滁州市全椒县十谭现 C11D 1/72 (2006.01) 代产业园 C11D 9/02 (2006.01) (72)发明人 何桥　黄开贵　李红学　 (74)专利代理机构 北京腾远知识产权代理事务 所(普通合伙) 11608 专利代理师 梁强 (51)Int.Cl. C11D 10/04 (2006.01) C11D 3/20 (2006.01) C11D 3/30 (2006.01) C11D 3/06 (2006.01)

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