使用包含氧化剂的清洁剂的CMP后缺陷的有效减少

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114250117 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202111030957.7 C11D 3/34 (2006.01) C11D 3/36 (2006.01) (22)申请日 2021.09.03 C11D 3/39 (2006.01) (30)优先权数据 C11D 3/60 (2006.01) 63/083,343 2020.09.25 US H01L 21/02 (2006.01) (71)申请人 福吉米株式会社 H01L 21/3105 (2006.01) 地址 日本爱知县 (72)发明人 布兰登 ·克罗克特　 吉米 ·格兰斯特伦姆　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. C11D 1/06 (2006.01) C11D 3/12 (2006.01) C11D