图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112578631 A (43)申请公布日 2021.03.30 (21)申请号 202011021526.X (22)申请日 2020.09.25 (30)优先权数据 2019-176892 2019.09.27 JP (71)申请人 HOYA株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 尾崎太一　 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人 朱丽娟　崔成哲 (51)Int.Cl. G03F 1/84 (2012.01) G03F 1/44 (2012.01) 权利要求书2页 说明书15页 附图10页 (54)发明名称 图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的 制造方法 (57)摘要 提供图案检查方法、光掩模检查装置、光掩 模的制造方法。即使在微细宽度图案中，也能稳 定且高精度地进行线宽测量。向检查区域照射 光，取得检查区域的透射光图像的工序；根据所 取得的透射光图像，得到检查区域的光强度分布 数据的工序；微分处理工序，通过对从光强度分 布数据求出的光强度分布曲线进行微分处理，得 到包含第1透射控制部和第2透射控制部的边界 部分即第1边界、以及第2透射控制部和第3透射 控制部的边界部分即第2边界的区域的光强度变 化曲线；拟合工序，将得到的光强度变化曲线拟 A 合到模型函数；以及根据拟合的结果求出第2透 1 射控制部的尺寸的工序。 3 6 8 7 5 2 1 1