光刻胶剂烘烤设备

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113703293 A (43)申请公布日 2021.11.26 (21)申请号 202110528811.9 (22)申请日 2021.05.14 (30)优先权数据 16/881,221 2020.05.22 US (71)申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 地址 中国台湾新竹市 (72)发明人 陈柏宏　陈裕凯　 (74)专利代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 聂慧荃　闫华 (51)Int.Cl. G03F 7/38 (2006.01) G03F 7/40 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 光刻胶剂烘烤设备 (57)摘要 本公开实施例提供一种光刻胶剂烘烤设备。 光刻胶剂烘烤设备包括烘烤室、烤盘、排气管路 以及盖板。烘烤室在其侧壁上具有排气口。烤盘 设置于烘烤室中，并且配置用以支撑晶片及加热 在晶片上方的光刻胶剂材料。排气管连接到排气 口，并且配置用以排出烘烤室内部的气体。盖板 设置于烤盘上方且位于烤盘和排气口之间。盖板 具有多个排气孔以允许空气流过。其中，较远离 排气口的排气孔的尺寸大于较靠近排气口的排 气孔的尺寸。 A 3 9 2 3 0 7 3 1 1 N C CN 113703293 A 权　利　要　求　书 1/2页