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暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法

2023-05-17 11:51:05 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202080087946.X
  • 公开(公告)日:2025-05-30
  • 公开(公告)号:CN114830043A
  • 申请人:ASML荷兰有限公司
摘要:本发明披露一种暗场数字全息显微镜,所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的所关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括:照射装置,所述照射装置被配置成至少提供:第一束对,所述第一束对包括第一照射辐射束(1010)和第一参考辐射束(1030);和第二束对,所述第二束对包括第二照射辐射束(1020)和第二参考辐射束(1040);和一个或更多个光学元件(1070),所述一个或更多个光学元件能够操作以捕获由所述结构散射的第一散射辐射且捕获由所述结构散射的第二散射辐射,所述第一散射辐射和所述第二散射辐射分别由所述第一照射束和所述第二照射束而产生。所述第一束对的束是相互相干的,以及所述第二束对的束是相互相干的。所述照射装置被配置成在所述第一束对与所述第二束对之间强加非相干性(ADI)。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114830043 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202080087946.X N ·潘迪 C ·弥赛西  J ·F ·迪鲍尔  (22)申请日 2020.10.21 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 (30)优先权数据 公司 11021 19216970.4 2019.12.17 EP 专利代理师 王益 20167524.6 2020.04.01 EP (51)Int.Cl. (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03H 1/04 (2006.01) 2022.06.16 G03H 1/26 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 G03F 7/20 (2006.01) PCT/EP2020/079540 2020.10.21

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