X射线屏蔽件的制造方法及X射线屏蔽件2025
- 申请专利号:CN202310762048.5
- 公开(公告)日:2025-07-15
- 公开(公告)号:CN117021261A
- 申请人:东北大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117021261 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202310762048.5 B27K 5/06 (2006.01) B27K 3/34 (2006.01) (22)申请日 2023.06.27 B27K 3/15 (2006.01) (71)申请人 东北大学 B27K 3/16 (2006.01) 地址 110819 辽宁省沈阳市和平区文化路 B27K 3/52 (2006.01) 三巷11号 B27K 3/36 (2006.01) (72)发明人 刘丽影 刘伟杰 李楠 B27K 9/00 (2006.01) B27J 1/00 (2006.01) (74)专利代理机构 北京易捷胜知识产权代理有 B24B 1/00 (2006.01) 限公司 11613 专利代理师 岑海梅
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