1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
发明

一种MIL-53-丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法2024

2024-04-07 07:37:18 发布于四川 4
  • 申请专利号：CN202410251271.8
  • 公开（公告）日：2024-05-28
  • 公开（公告）号：CN117826533A
  • 申请人：上海艾深斯科技有限公司
摘要：本发明涉及半导体芯片及化工领域，具体涉及一种MIL‑53‑丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和制备方法。该复合物通过如下方法制备：将MIL‑53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1‑10的比例，在氮气保护下加入溶剂中，200‑1000rpm搅拌，高温密闭反应36‑48h，过滤后真空干燥即得。所述的负性光刻胶组合物包括如下组分：环氧树脂，MIL‑53‑丙烯酸酯复合物，染料，光引发剂，流平剂以及溶剂；可改善树脂分子链纠缠杂乱问题，提高边缘垂直度和分辨率，同时可以具有识别、鉴定、条形码锚定潜力。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117826533 A (43)申请公布日 2024.04.05 (21)申请号 202410251271.8 (22)申请日 2024.03.06 (71)申请人 上海艾深斯科技有限公司 地址 201602 上海市松江区佘山镇吉业路 399号1幢、2幢、4幢、5幢 (72)发明人 张月红　冯芳华　 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/027 (2006.01) G03F 7/038 (2006.01) C07H 1/00 (2006.01) C07H 13/08 (2006.01) C08G 59/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图1页 (54)发明名称 一种MIL-53-丙烯酸酯复合物及负性光刻胶 和制备方法 (57)摘要 本发明涉及半导体芯片及化工领域，具体涉 及一种MIL‑53‑丙烯酸酯复合物及负性光刻胶和 制备方法。该复合物通过如下方法制备：将MIL‑ 53和丙烯酸酯类单体以重量比1：1‑10的比例，在 氮气保护下加入溶剂中，200‑1000rpm搅拌，高温 密闭反应36‑48h，过滤后真空干燥即得。所述的 负性光刻胶组合物包括如下组分：环氧树脂， MIL‑53‑丙烯酸酯复合物，染料，光引发剂，流平 剂以及溶剂；可改善树脂分子链纠缠杂乱问题， 提高边缘垂直度和分辨率，同时可以具有识别、 鉴定、条形码锚定潜力。 A 3 3 5 6

最新专利

相关专利