轴向多阴极真空镀膜设备及复合梯度镀膜的方法2025
- 申请专利号:CN202310863652.7
- 公开(公告)日:2025-07-08
- 公开(公告)号:CN116875939A
- 申请人:武汉大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116875939 A (43)申请公布日 2023.10.13 (21)申请号 202310863652.7 (22)申请日 2023.07.14 (71)申请人 武汉大学 地址 430072 湖北省武汉市武昌区八一路 299号 (72)发明人 魏耕 向兀 柳成荫 李健 (74)专利代理机构 山东誉丰合创知识产权代理 有限公司 37384 专利代理师 薛鹏喜 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图5页 (54)发明名称 轴向多阴极真空镀膜设备及复合梯度镀膜 的方法 (57)摘要 本发明公开了轴向多阴极真空镀膜设备及 复合梯度镀膜的方法,在多阴极靶头上设有一个 中心电极和若干个侧边电极,中心电极位于多阴 极靶头的中心处 ,侧边电极围绕着中心电极设 置;中心电极连接着中心靶材丝,侧边电极连接 着侧边靶材丝 ,中心靶材丝沿着管道中心线设 置,侧边靶材围绕着中心靶材螺旋设置 ;中心靶 材和侧边靶材由若干带孔的陶瓷组件连接;中心 电极与第一溅射电源连接,侧边电极与第二溅射 电源连接。不仅解决了部分合金靶材丝无法加工 而使用的问题,同时也能在镀膜的过程中保证薄 A 膜的成分、膜厚和结构的横向、轴向均匀性,且调 9 节薄膜的组分比例。 3 9 5 7 8
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