一种氧化亚硅反应和沉积设备2023

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219771783 U (45)授权公告日 2023.09.29 (21)申请号 202321012468.3 (22)申请日 2023.04.28 (73)专利权人 郑州炬煌新材料科技有限公司 地址 451261 河南省郑州市巩义市站街镇 胡坡村北环路5号 (72)发明人 宗合威　牛利伟　翟晓龙　 (51)Int.Cl. C01B 33/113 (2006.01) F27B 17/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)实用新型名称 一种氧化亚硅反应和沉积设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种氧化亚硅反应和沉 积设备，包括支撑座、下罐体和上罐体，下罐体内 侧设置有加热源，上罐体安装于下罐体上。支撑 座上设置有呈倾斜状的定位圈和呈凹弧状的凹 槽，下罐体设置于定位圈内且端部抵触凹槽内以 固定下罐体。该实用新型提供的氧化亚硅反应和 沉积设备，上罐体中有气囊，利用气囊的充气与 放气，实现反应体系体积的控制，因此造成整个 气体体系的快速且较大幅度降温，为氧化亚硅的 沉积提供良好的环境条件，得到稳定均一的的沉 积产物，产品品质高、适于作为锂电负极原材料。 U 3 8 7 1 7 7 9 1 2 N C CN 219771783 U 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种氧化亚硅反应和沉积设备，其特征在于，所述设备包括：