发明

掩模组件及其制备方法

2023-05-12 11:54:56 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202210210772.2
  • 公开(公告)日:2025-04-08
  • 公开(公告)号:CN114582723A
  • 申请人:京东方科技集团股份有限公司|||重庆京东方显示技术有限公司
摘要:本公开实施例提供一种掩模组件及其制备方法,其中,该掩模组件包括掩模版,掩模版的周缘设置有夹持槽;夹盖,夹盖的形状与夹持槽的形状适配;掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面均设置有氧化膜。本公开实施例的技术方案可以避免夹持槽的表面与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀,从而避免污染工艺环境。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114582723 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202210210772.2 (22)申请日 2022.03.04 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 申请人 重庆京东方显示技术有限公司 (72)发明人 王丹名 李聪 张帅  (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所 11313 专利代理师 王丹丹 包莉莉 (51)Int.Cl. H01L 21/32 (2006.01) C23C 16/04 (2006.01) C25D 11/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 掩模组件及其制备方法 (57)摘要 本公开实施例提供一种掩模组件及其制备 方法,其中,该掩模组件包括掩模版,掩模版的周 缘设置有夹持槽;夹盖,夹盖的形状与夹持槽的 形状适配;掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹 盖的表面均设置有氧化膜。本公开实施例的技术 方案可以避免夹持槽的表面与工艺气体发生反 应而生锈或腐蚀,从而避免污染工艺环境。 A 3 2 7 2 8 5 4 1 1 N C CN 114582723 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种掩模组件,其特征在于,包括: 掩模版,所述掩模版的周缘设

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