发明

一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备

2023-05-14 12:15:52 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202210351933.X
  • 公开(公告)日:2025-04-29
  • 公开(公告)号:CN114675506A
  • 申请人:京东方科技集团股份有限公司
摘要:本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。方法包括:根据待曝光基板的多个待曝光版图,确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量;根据各待曝光版图和各预设曝光剂量,确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域;根据各预设曝光剂量,确定参考曝光剂量;基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描,在扫描至各曝光区域的情况下,调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量;其中,根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式,确定对应的目标曝光剂量。本公开的技术方案,可以实现一次扫描过程中的多剂量曝光,节约了曝光时间。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114675506 A (43)申请公布日 2022.06.28 (21)申请号 202210351933.X (22)申请日 2022.04.02 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 (72)发明人 冯京 刘鹏 王志冲 苌川川  袁广才 董学  (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所 11313 专利代理师 王云红 翟姝红 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书3页 说明书12页 附图3页 (54)发明名称 一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备 (57)摘要 本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装 置、扫描曝光设备。方法包括:根据待曝光基板的 多个待曝光版图,确定目标扫描速度和各待曝光 版图分别对应的预设曝光剂量;根据各待曝光版 图和各预设曝光剂量,确定各预设曝光剂量在待 曝光基板上对应的各曝光区域;根据各预设曝光 剂量,确定参考曝光剂量;基于目标扫描速度对 待曝光基板进行扫描,在扫描至各曝光区域的情 况下,调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区 域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量;其中,根 据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量 以及预设的目标剂量关系式,确定对应的目标曝 A 光剂量。本公开的技术方案,可以实现一次扫描 6 过程中的多剂量曝光,节约了曝光时间。 0 5 5 7 6 4 1 1 N C CN

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