显影处理方法和显影处理装置
- 申请专利号:CN202010849612.3
- 公开(公告)日:2025-07-15
- 公开(公告)号:CN112445086A
- 申请人:东京毅力科创株式会社
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112445086 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 202010849612.3 (22)申请日 2020.08.21 (30)优先权数据 2019-159472 2019.09.02 JP (71)申请人 东京毅力科创株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 甲斐亚希子 一之宫博 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇 李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/30 (2006.01) G03F 7/42 (2006.01) 权利要求书3页 说明书16页 附图7页 (54)发明名称 显影处理方法和显影处理装置 (57)摘要 涉及显影处理方法和显影处理装置。降低形 成对水的接触角大的抗蚀膜时的缺陷数。显影处 理方法对基板上的抗蚀膜进行显影处理,包括: 工序(A),向前述基板供给显影液以使前述抗蚀 膜进行显影,形成抗蚀图案;工序(B),向显影后 的前述基板供给水系清洗液,用该水系清洗液对 该基板进行清洗;工序(C),在用前述水系清洗液 清洗了的前述基板上涂布水溶性聚合物的水溶 液,在前述基板表面形成具有亲水性的亲水性 层;和,工序(D),对形成有前述亲水性层的基板 用冲洗液进行清洗,前述工序(B)包括使前述基 板的转速加速的工序(a)和在前述工序(a)后直 A 至前述工序(C)开始之间使前述基板的转速减速 6
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