发明

半导体装置制造中的移位控制方法

2023-06-02 13:10:23 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201911394504.5
  • 公开(公告)日:2025-04-04
  • 公开(公告)号:CN112530815A
  • 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司
摘要:一种在半导体装置制造中的移位控制方法包括至少以下步骤。确定半导体管芯的第一目标与所述半导体管芯的第二目标的叠对偏移,其中所述第二目标设置在所述第一目标上。将所述半导体管芯放置在载体之上,其中放置所述半导体管芯包括反馈所述叠对偏移以得到对所述半导体管芯的位置控制。对所述半导体管芯进行后处理以形成半导体装置。还提供其他在半导体装置制造中的移位控制方法。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112530815 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 201911394504.5 (22)申请日 2019.12.30 (30)优先权数据 16/572,628 2019.09.17 US (71)申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力 行六路八号 (72)发明人 吴志伟 施应庆 邹贤儒  (74)专利代理机构 南京正联知识产权代理有限 公司 32243 代理人 王素琴 (51)Int.Cl. H01L 21/56(2006.01) H01L 21/66(2006.01) H01L 21/60(2006.01) 权利要求书2页 说明书14页 附图16页 (54)发明名称 半导体装置制造中的移位控制方法 (57)摘要 一种在半导体装置制造中的移位控制方法 包括至少以下步骤。确定半导体管芯的第一目标 与所述半导体管芯的第二目标的叠对偏移,其中 所述第二目标设置在所述第一目标上。将所述半 导体管芯放置在载体之上,其中放置所述半导体 管芯包括反馈所述叠对偏移以得到对所述半导 体管芯的位置控制。对所述半导体管芯进行后处 理以形成半导体装置。还提供其他在半导体装置 制造中的移位控制方法。 A 5 1 8

最新专利