发明

一种用于绝缘子的清洗装置和清洗系统

2023-06-14 13:02:59 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202110444321.0
  • 公开(公告)日:2025-06-10
  • 公开(公告)号:CN113118111A
  • 申请人:深圳市中安维科技有限公司
摘要:本发明涉及电气安全的技术领域,具体提供一种用于绝缘子的清洗装置和清洗系统;其中,清洗装置包括底座、弧形弹片和围绕所述底座设置的围板,弧形弹片包括固定设于底座的第一弧形片和第二弧形片,第一弧形片和第二弧形片之间形成喷射通道;围板的内侧壁上设有用于挤压第一弧形片和/或第二弧形片的凸起结构,围板可旋转设于底座上,底座的底部设有连通喷射通道的进液通道,且底座或围板被旋转至预设位置时,凸起结构挤压第一弧形片和/或挤压第二弧形片。本发明的清洗装置可以动态调整喷射通道的大小,实现调整喷射通道的流量,并同时可以增加喷射通道的喷射面积,从而提高对绝缘子的清洗效率。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113118111 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 202110444321.0 (22)申请日 2021.04.23 (71)申请人 深圳市中安维科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市光明区马田街 道马山头社区钟表基地格雅科技大厦 1栋305 (72)发明人 彭文星 彭照  (74)专利代理机构 深圳众鼎专利商标代理事务 所(普通合伙) 44325 代理人 张美君 (51)Int.Cl. B08B 3/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图10页 (54)发明名称 一种用于绝缘子的清洗装置和清洗系统 (57)摘要 本发明涉及电气安全的技术领域,具体提供 一种用于绝缘子的清洗装置和清洗系统;其中, 清洗装置包括底座、弧形弹片和围绕所述底座设 置的围板,弧形弹片包括固定设于底座的第一弧 形片和第二弧形片,第一弧形片和第二弧形片之 间形成喷射通道;围板的内侧壁上设有用于挤压 第一弧形片和/或第二弧形片的凸起结构,围板 可旋转设于底座上,底座的底部设有连通喷射通 道的进液通道,且底座或围板被旋转至预设位置 时,凸起结构挤压第一弧形片和/或挤压第二弧 形片。本发明的清洗装置可以动态调整喷射通道 的大小,实现调整喷射通道的流量,并同时可以 A 增加喷射通道的喷射面积,从而提高对绝缘子的 1 清洗效率。 1 1 8 1 1 3 1 1

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