一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面及其制作工艺

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113394570 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110801766.X (22)申请日 2021.07.15 (71)申请人 电子科技大学长三角研究院（湖州） 地址 313000 浙江省湖州市西塞山路819号 南太湖科技创新综合体B1栋 (72)发明人 杨歆汨　汤思宇　张颖　黄晨路　 万家辉　陈志　 (74)专利代理机构 成都东恒知盛知识产权代理 事务所 (特殊普通合伙) 51304 代理人 何健雄 (51)Int.Cl. H01Q 17/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种低剖面低入射角度敏感性的吸波表面 及其制作工艺 (57)摘要 本发明公开了一种低剖面低入射角度敏感 性的吸波表面，包括介质基板、印刷在介质基板 正面的由有耗频率选择单元排布组成的二维平 面周期阵列、金属背板；有耗频率选择单元由边 缘交指化的电阻性方环贴片以及金属方贴片嵌 套而成。本发明能够在工作频段内达到90％以上 的吸波率，同时对于TE、TM极化，俯仰入射角在0 ～40°范围以及任意方位入射角的入射电磁波， 保持较好的性能稳定性。相比于现有技术，本发 明的优点是剖面极其低，重量轻，加工较方便，在 工作频带内吸波率高，极化稳定性和角稳定性较 A 好，有很好的工程应用前景。 0 7 5 4