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大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置2025

2024-02-04 07:46:12 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311214812.1
  • 公开(公告)日:2025-07-11
  • 公开(公告)号:CN117490979A
  • 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要:本发明公开了一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置,涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量,其目的在于解决现有技术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差较大的技术问题,相比于传统的双光路测量方法,本申请在光路中引入了参考高反射镜,并将其作为比较测量对象;由于引入的参考高反射镜的透射率在光路中进行了原位标定,其提高了系统误差测量的进度;结合剩余透射率、剩余反射率的计算公式,计算公式中都有乘以标定的参考高反射镜的剩余透射率,从而极大地降低随机误差,进一步提高测量精度。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117490979 A (43)申请公布日 2024.02.02 (21)申请号 202311214812.1 (22)申请日 2023.09.19 (71)申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究 中心 地址 621900 四川省绵阳市游仙区绵山路 64号 (72)发明人 高波 刘昂 万道明 徐凯源  何宇航 魏小红 陈宁 石振东  王凤蕊 李强  (74)专利代理机构 成都弘毅天承知识产权代理 有限公司 51230 专利代理师 谢建 (51)Int.Cl. G01M 11/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性 测量装置 (57)摘要 本发明公开了一种大口径平板元件剩余透 反射率及不均匀性测量装置,涉及光学元件透反 射率及不均匀性的测量,其目的在于解决现有技 术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差 较大的技术问题,相比于传统的双光路测量方 法,本申请在光路中引入了参考高反射镜,并将 其作为比较测量对象;由于引入的参考高反射镜 的透射率在光路中进行了原位标定,其提高了系 统误差测量的进度;结合剩余透射率、剩余反射 率的计算公式,计算公式中都有乘以标定的参考 高反射镜的剩余透射率,从而极大地降低随机误 A 差,进一步提高测量精度。 9 7 9 0 9 4 7

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