一种单晶炉副室用的可变径清理装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116274205 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310226017.8 (22)申请日 2023.03.10 (71)申请人 乐山市京运通新材料科技有限公司 地址 614000 四川省乐山市五通桥区金粟 镇十字街10号 (72)发明人 何阳　关树军　洪华　路建华　 杨春祥　董宇豪　杨宇　 (74)专利代理机构 成都蓉创智汇知识产权代理 有限公司 51276 专利代理师 赵雷 (51)Int.Cl. B08B 9/087 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图6页 (54)发明名称 一种单晶炉副室用的可变径清理装置 (57)摘要 本发明公开了一种单晶炉副室用的可变径 清理装置，涉及单晶硅制造技术领域，其可至少 部分解决现有技术中副室清理工装对于不同尺 寸的副室通用性不强，以及无法将副室顶端的杂 质清理掉的问题。本发明实施例的一种单晶炉副 室用的可变径清理装置，包括支撑筒组件以及用 于清理副室内壁的弹性刮片 ，弹性刮片呈圆弧 形，支撑筒组件和弹性刮片之间还设置有长度可 变的支撑组件，支撑组件的一端设置于支撑筒组 件的外周壁上，另一端设置于弹性刮片的凹侧。 A 5 0 2 4 7 2 6 1 1 N C CN 116274205 A 权　利　要　求　书