发明

一种提升熔石英元件损伤阈值的激光清洗方法2025

2023-11-16 07:57:27 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202310957263.0
  • 公开(公告)日:2025-08-12
  • 公开(公告)号:CN117046851A
  • 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要:一种提升熔石英元件损伤阈值的激光清洗方法,包括:首先用光学显微镜和荧光共聚焦显微镜检测表面及亚表面污染缺陷的分布和深度;随后采用应力双折射仪进行不同清洗深度热应力的测定;再通过特定参数进行近无热应力的激光清洗,从而去除元件表面及亚表面污染和结构缺陷,此过程可以实现不破坏元件粗糙度的均匀清洗;最后采用去离子水对熔石英元件进行超声清洁。本发明操作简单且成本低廉,仅需激光清洗即可实现缺陷及污染的有效去除,从而实现近无应力条件下,不破坏粗糙度的均匀清洗,并显著提升熔石英元件的损伤阈值。本方法拓展了激光加工的应用场景,对提高强激光系统元件的损伤阈值有重大意义。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117046851 A (43)申请公布日 2023.11.14 (21)申请号 202310957263.0 (22)申请日 2023.08.01 (71)申请人 中国科学院上海光学精密机械研究 所 地址 201800 上海市嘉定区清河路390号 (72)发明人 魏朝阳 韩宜池 万嵩林 彭小聪  邵建达  (74)专利代理机构 上海恒慧知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31317 专利代理师 张宁展 (51)Int.Cl. B08B 11/00 (2006.01) B08B 7/00 (2006.01) B08B 3/02 (2006.01) B08B 3/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 (54)发明名称 一种提升熔石英元件损伤阈值的激光清洗 方法 (57)摘要 一种提升熔石英元件损伤阈值的激光清洗 方法,包括 :首先用光学显微镜和荧光共聚焦显 微镜检测表面及亚表面污染缺陷的分布和深度; 随后采用应力双折射仪进行不同清洗深度热应 力的测定;再通过特定参数进行近无热应力的激 光清洗,从而去除元件表面及亚表面污染和结构 缺陷,此过程可以实现不破坏元件粗糙度的均匀 清洗;最后采用去离子水对熔石英元件进行超声 清洁。本发明操作简单且成本低廉,仅需激光清 洗即可实现缺陷及污染的有效去除,从而实现近 无应力条件下

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