一种化学气相沉积设备
- 申请专利号:CN202210130187.1
- 公开(公告)日:2025-03-28
- 公开(公告)号:CN114574836A
- 申请人:李涛
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114574836 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202210130187.1 (22)申请日 2022.02.11 (71)申请人 李涛 地址 102600 北京市大兴区黄村海子角黄 徐路东侧辛店小区A栋301室 (72)发明人 李涛 王俊 刘书凯 (51)Int.Cl. C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 一种化学气相沉积设备 (57)摘要 本发明涉及化学气相沉积技术领域,具体为 一种化学气相沉积设备,包括箱体、铰接在箱体 上的箱盖、固定安装在箱盖上的进料口,所述箱 体的内壁上固定安装有缓冲箱,所述进料口的底 部与缓冲箱的上端连通,所述缓冲箱的内部固定 安装有第一固定杆,所述第一固定杆的下端设有 扇叶。本发明通过设置第一固定杆、扇叶、缓冲箱 等机构,待沉积气体由进料口进入箱体内部,利 用驱动设备带动扇叶旋转,旋转的扇叶在进料口 处形成气流,加快待沉积气体进入缓冲箱的速 度,待沉积气体通过通气孔扩散到缓冲箱的下 端,使得待沉积气体均匀扩散到箱体内腔中。 A 6 3 8 4 7 5 4 1 1 N C CN 114574836 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种化学气相沉积设备,包括箱体(1)、铰接在箱体
最新专利
- 高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法公开日期:2025-04-11公开号:CN117778977A申请号:CN202311857011.7高功率脉冲磁控溅射与调制脉冲磁控溅射复合共沉积方法
- 发布时间:2024-03-31 07:44:340
- 申请号:CN202311857011.7
- 公开号:CN117778977A
- 一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116770242A申请号:CN202310568969.8一种用于电解水制氢的非晶态铜钨合金及其制备方法
- 发布时间:2023-09-24 07:18:090
- 申请号:CN202310568969.8
- 公开号:CN116770242A
- 一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116463629A申请号:CN202310476236.1一种低界面热阻的氮化镓/金刚石复合散热层的制备方法
- 发布时间:2023-07-23 17:33:280
- 申请号:CN202310476236.1
- 公开号:CN116463629A
- 锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116426926A申请号:CN202310305818.3锂电铜箔废弃防氧化液回收利用装置及其使用方法
- 发布时间:2023-07-16 07:22:240
- 申请号:CN202310305818.3
- 公开号:CN116426926A
- 一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法公开日期:2025-04-11公开号:CN116397198A申请号:CN202310360438.X一种THB抗氧化金属化薄膜及其制作方法
- 发布时间:2023-07-09 07:15:260
- 申请号:CN202310360438.X
- 公开号:CN116397198A
- 一种薄膜材料样品的高通量制备装置公开日期:2025-04-11公开号:CN116334573A申请号:CN202310341059.6一种薄膜材料样品的高通量制备装置
- 发布时间:2023-06-29 07:14:550
- 申请号:CN202310341059.6
- 公开号:CN116334573A