一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法
- 申请专利号:CN202310349195.X
- 公开(公告)日:2025-07-18
- 公开(公告)号:CN116360024A
- 申请人:中北大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116360024 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310349195.X (22)申请日 2023.04.04 (71)申请人 中北大学 地址 030051 山西省太原市尖草坪区学院 路3号 (72)发明人 石云波 赵锐 祖凯旋 沈富明 张旭 刘豪 (74)专利代理机构 太原科卫专利事务所(普通 合伙) 14100 专利代理师 侯小幸 (51)Int.Cl. G02B 5/18 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种多阶梯周期光栅结构及 其制备方法,涉及微位移检测技术领域。包括周 期性的多阶梯光栅结构,每个周期的多阶梯光栅 结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构,四阶梯 光栅结构均设于衬底基板上,四阶梯光栅结构按 照单周期内从右到左的顺序,分别为第一阶梯光 栅结构、第二阶梯光栅结构、第三阶梯光栅结构、 第四阶梯光栅结构,为三个不同高度的层结构阵 列。本发明通过结构改进实现对零级衍射光的调 控削弱,以达到提高检测系统激光器稳定性的效 果,通过对应制备方法所制备的多阶梯周期光栅 结构具有零级光调控减弱作用,能够实现一定范 A 围的光强调控,同时便于制备和集成,具备较高 4 的衍射效率,能够应用于集成化高精度位
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