发明

一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法

2023-07-03 10:10:24 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310349195.X
  • 公开(公告)日:2025-07-18
  • 公开(公告)号:CN116360024A
  • 申请人:中北大学
摘要:本发明公开了一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法,涉及微位移检测技术领域。包括周期性的多阶梯光栅结构,每个周期的多阶梯光栅结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构,四阶梯光栅结构均设于衬底基板上,四阶梯光栅结构按照单周期内从右到左的顺序,分别为第一阶梯光栅结构、第二阶梯光栅结构、第三阶梯光栅结构、第四阶梯光栅结构,为三个不同高度的层结构阵列。本发明通过结构改进实现对零级衍射光的调控削弱,以达到提高检测系统激光器稳定性的效果,通过对应制备方法所制备的多阶梯周期光栅结构具有零级光调控减弱作用,能够实现一定范围的光强调控,同时便于制备和集成,具备较高的衍射效率,能够应用于集成化高精度位移检测领域中。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116360024 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310349195.X (22)申请日 2023.04.04 (71)申请人 中北大学 地址 030051 山西省太原市尖草坪区学院 路3号 (72)发明人 石云波 赵锐 祖凯旋 沈富明  张旭 刘豪  (74)专利代理机构 太原科卫专利事务所(普通 合伙) 14100 专利代理师 侯小幸 (51)Int.Cl. G02B 5/18 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种多阶梯周期光栅结构及 其制备方法,涉及微位移检测技术领域。包括周 期性的多阶梯光栅结构,每个周期的多阶梯光栅 结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构,四阶梯 光栅结构均设于衬底基板上,四阶梯光栅结构按 照单周期内从右到左的顺序,分别为第一阶梯光 栅结构、第二阶梯光栅结构、第三阶梯光栅结构、 第四阶梯光栅结构,为三个不同高度的层结构阵 列。本发明通过结构改进实现对零级衍射光的调 控削弱,以达到提高检测系统激光器稳定性的效 果,通过对应制备方法所制备的多阶梯周期光栅 结构具有零级光调控减弱作用,能够实现一定范 A 围的光强调控,同时便于制备和集成,具备较高 4 的衍射效率,能够应用于集成化高精度位

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