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发明

一种光瞳监测系统

2023-05-10 10:58:18 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202310055356.4
  • 公开（公告）日：2025-07-15
  • 公开（公告）号：CN116068863A
  • 申请人：上海镭望光学科技有限公司
摘要：一种光瞳监测系统，包括：平行光光源、第一微镜阵列、第二微镜阵列、光斑位置监测装置和光束吸收装置；第一微镜阵列将平行光光源照射的光束整体反射至第二微镜阵列；根据第二微镜阵列中的待调节微镜，控制第一微镜阵列中与第二微镜阵列中待调节微镜对应的微镜处于第一状态，控制第一微镜阵列中的其他微镜处于第二状态，使第一微镜阵列中处于第一状态的微镜将平行光光源照射的光束反射至第二微镜阵列中的待调节微镜上，及第一微镜阵列中处于第二状态的微镜将平行光光源照射的光束反射至光束吸收装置，以使光斑位置监测装置监测第二微镜阵列中的待调节微镜反射光束的光斑位置。采用MMA和平行光光源作为光瞳监测光源，极大地降低成本和制作工艺难度。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116068863 A (43)申请公布日 2023.05.05 (21)申请号 202310055356.4 (22)申请日 2023.01.16 (71)申请人 上海镭望光学科技有限公司 地址 201821 上海市嘉定区叶城路1288号6 幢J (72)发明人 胡敬佩　黄惠杰　 (74)专利代理机构 上海恒慧知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31317 专利代理师 张宁展 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G02B 27/48 (2006.01) G02B 27/28 (2006.01) G02B 27/09 (2006.01) G02B 26/08 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 一种光瞳监测系统 (57)摘要 一种光瞳监测系统，包括：平行光光源、第一 微镜阵列、第二微镜阵列、光斑位置监测装置和 光束吸收装置；第一微镜阵列将平行光光源照射 的光束整体反射至第二微镜阵列；根据第二微镜 阵列中的待调节微镜，控制第一微镜阵列中与第 二微镜阵列中待调节微镜对应的微镜处于第一 状态，控制第一微镜阵列中的其他微镜处于第二 状态，使第一微镜阵列中处于第一状态的微镜将 平行光光源照射的光束反射至第二微镜阵列中 的待调节微镜上，及第一微镜阵列中处于第二状 态的微镜将平行光光源照射的光束反射至光

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