一种硅片清洗方法及系统2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117086020 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202310914276.X (22)申请日 2023.07.25 (71)申请人 广东金湾高景太阳能科技有限公司 地址 519000 广东省珠海市金湾区三灶镇 湖滨路1566号 申请人 四川高景太阳能科技有限公司 (72)发明人 周禹　郭翔　薄千顷　付明全　 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 卢泽明 (51)Int.Cl. B08B 3/12 (2006.01) B08B 3/10 (2006.01) B08B 3/08 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 一种硅片清洗方法及系统 (57)摘要 本发明涉及一种硅片清洗方法及系统，该方 法包括：S1.将硅片放入第一清洗槽，在第一清洗 槽的纯水中加入空气，与兆声波共同作用，去除 硅片上大颗料的杂质；S2 .将经步骤S1处理的硅 片放入第二清洗槽，在第二清洗的纯水中加入臭 氧，与兆声波共同作用，去除硅片上的原子类、分 子类和离子类杂质；S3 .将经步骤S2处理的硅片 放入第三清洗槽，在第三清洗槽的纯水中加入空 气和臭氧，与兆声波共同作用，去除硅片上残余 的原子类、分子类和离子类杂质。这样即可实现 硅片的高效清洁，且整个清洗过程无需使用任何 化学药剂，清洗成本低，工序简化，清洗时间