一种槽口可调节的晶圆单片式电镀机2025
- 申请专利号:CN202311146112.3
- 公开(公告)日:2025-06-20
- 公开(公告)号:CN116876064A
- 申请人:苏州智程半导体科技股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116876064 A (43)申请公布日 2023.10.13 (21)申请号 202311146112.3 (22)申请日 2023.09.07 (71)申请人 苏州智程半导体科技股份有限公司 地址 215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇 玉杨路299号3号房 (72)发明人 刘瑞 杨仕品 华斌 (51)Int.Cl. C25D 17/00 (2006.01) C25D 7/12 (2006.01) C25D 17/08 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图13页 (54)发明名称 一种槽口可调节的晶圆单片式电镀机 (57)摘要 本发明属于半导体晶圆技术领域,尤其是一 种槽口可调节的晶圆单片式电镀机,一种槽口可 调节的晶圆单片式电镀机,包括机架以及设置在 机架上的多层电镀槽体。该槽口可调节的晶圆单 片式电镀机,通过设置伸缩拉展机构,实现对电 镀槽体内槽口孔径大小的调节,避免不同的电镀 液发生混合,同时适应不同大小尺寸的半导体晶 圆进行电镀液冲洗,伺服马达输出轴的转动带动 与其连接的连接轴转动,该连接轴的转动带动与 其连接的齿轮转动,该齿轮的转动使其沿着齿环 的表面移动,从而带动另一个齿轮转动,同时该 齿轮的转动带动连接轴转动,进而便于通过连接 A 轴带动两个弧形调节板沿着凹槽内壁进行相对 4 运动,达到调节槽口的效果。 6 0 6 7 8 6 1 1 N C CN 116876064 A
最新专利
- 抑制OH根毒化作用的Mo掺杂Ru团簇析氢催化剂的制备方法公开日期:2025-08-12公开号:CN116479462A申请号:CN202310100233.8抑制OH根毒化作用的Mo掺杂Ru团簇析氢催化剂的制备方法
- 发布时间:2023-07-28 07:14:490
- 申请号:CN202310100233.8
- 公开号:CN116479462A
- 一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用公开日期:2025-08-12公开号:CN116463704A申请号:CN202310530408.9一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用
- 发布时间:2023-07-23 17:34:520
- 申请号:CN202310530408.9
- 公开号:CN116463704A
- 锰渣的资源利用及无害化处理的方法与设备公开日期:2025-08-12公开号:CN116426976A申请号:CN202310386122.8锰渣的资源利用及无害化处理的方法与设备
- 发布时间:2023-07-16 07:23:370
- 申请号:CN202310386122.8
- 公开号:CN116426976A
- Fe系电镀钢板、电沉积涂装钢板、汽车部件、电沉积涂装钢板的制造方法以及Fe系电镀钢板的制造方法公开日期:2025-08-12公开号:CN116419983A申请号:CN202180074896.6Fe系电镀钢板、电沉积涂装钢板、汽车部件、电沉积涂装钢板的制造方法以及Fe系电镀钢板的制造方法
- 发布时间:2023-07-13 07:16:280
- 申请号:CN202180074896.6
- 公开号:CN116419983A
- 一种基于玻璃微探针的平面微纳沉积控制方法公开日期:2025-08-12公开号:CN116397287A申请号:CN202211669023.2一种基于玻璃微探针的平面微纳沉积控制方法
- 发布时间:2023-07-09 07:12:550
- 申请号:CN202211669023.2
- 公开号:CN116397287A
- 一种自支撑多组分高分散贵金属薄膜电催化剂及其制备方法公开日期:2025-08-12公开号:CN116377502A申请号:CN202310429449.9一种自支撑多组分高分散贵金属薄膜电催化剂及其制备方法
- 发布时间:2023-07-06 10:34:560
- 申请号:CN202310429449.9
- 公开号:CN116377502A