一种芯片的制作方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114077153 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202111408489.2 (22)申请日 2021.11.19 (71)申请人 泉意光罩光电科技（济南）有限公司 地址 250101 山东省济南市高新区经十路 7000号汉峪金融商务中心A4-(4)办公 楼九层904室 (72)发明人 黃钲为　葛伟妮　李式中　李双双　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 鲁梅 (51)Int.Cl. G03F 1/00 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 一种芯片的制作方法 (57)摘要 本申请实施例公开了一种芯片的制作方法， 该方法包括：提供一光罩；将所述光罩的第一表 面划分为多个尺寸和形状均相同的预设区域；根 据各个预设区域中的预设图形的数量，获取所述 多个预设区域中各个预设区域的图形密度；根据 所述预设区域的图形密度，得到修正区域，所述 修正区域包括图形密度取值范围在第一预设值 和第二预设值之间的至少一个预设区域，包括端 点值；在所述修正区域选取多个测量点，根据所 述多个测量点所在位置处的预设图形的线宽，对 利用所述光罩制作芯片时的曝光剂量进行调整； 根据调整后的曝光剂量，利用所述光罩制作所述 A 芯片，能够有效改善芯片线宽的均匀性，从而有 3