抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113138532 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202110056902.7 (22)申请日 2021.01.15 (30)优先权数据 10-2020-0006770 2020.01.17 KR (71)申请人 三星SDI株式会社 地址 韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150- 20号 (72)发明人 崔有廷　权纯亨　朴贤　白载烈　 金旼秀　裵信孝　宋大锡　安度源　 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理 有限公司 11205 代理人 杨文娟　臧建明 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/09 (2006.01) 权利要求书9页 说明书28页 附图2页 (54)发明名称 抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成 图案的方法 (57)摘要 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含： (A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2 表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中 由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个 和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合 物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层 组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化 学式7的定义如说明书中所描述。 A 2 3 5 8 3 1 3 1 1 N C CN 11313853