发明

一种晶振测量系统及测量方法和装置

2023-06-02 12:19:30 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202011360421.7
  • 公开(公告)日:2023-06-02
  • 公开(公告)号:CN112458407A
  • 申请人:江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
摘要:本发明实施例公开了一种晶振测量系统及测量方法和装置,晶振测量系统包括移动载台、蒸镀源、可旋转晶振探头以及基板,晶振测量系统用于测量蒸镀速率以及调节晶振探头与蒸镀源之间位置关系;该测量方法包括:获取晶振探头的位置信息;调取与位置信息所对应的膜厚调整参数TF;测试得到晶振探头的探头测量速率V1,并计算得到基板的材料实际蒸镀速率V2,V2=V1*TF;若V1和V2中至少一种不满足蒸镀源所对应的预设蒸镀条件,则调整蒸镀源的功率和/或晶振探头的位置,直至调整后V1和V2满足预设蒸镀条件;若V1和V2满足预设蒸镀条件,则进行蒸镀工作。本发明根据需求随时调整晶振探头速率,延长晶振寿命,提高膜厚控制精度。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112458407 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202011360421.7 (22)申请日 2020.11.27 (71)申请人 江苏集萃有机光电技术研究所有限 公司 地址 215000 江苏省苏州市吴江区黎里镇 汾湖大道1198号 (72)发明人 廖良生 徐蒙蒙 陈千里 王江南  张川 史晓波 冯敏强  (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 孟金喆 (51)Int.Cl. C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图3页 (54)发明名称 一种晶振测量系统及测量方法和装置 (57)摘要 本发明实施例公开了一种晶振测量系统及 测量方法和装置,晶振测量系统包括移动载台、 蒸镀源、可旋转晶振探头以及基板,晶振测量系 统用于测量蒸镀速率以及调节晶振探头与蒸镀 源之间位置关系;该测量方法包括:获取晶振探 头的位置信息;调取与位置信息所对应的膜厚调 整参数TF;测试得到晶振探头的探头测量速率 V1,并计算得到基板的材料实际蒸镀速率V2,V2 =V1*TF;若V1和V2中至少一种不满足蒸镀源所 对应的预设蒸镀条件,则调整蒸镀源的功率和/ 或晶振探头的位置,直至调整后V1和V2满足预设 蒸镀条件;若V1和V2满足预设蒸镀条件,则进行

最新专利