发明

金属化薄膜、镀膜机及制备工艺

2023-07-06 10:32:32 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202310360440.7
  • 公开(公告)日:2025-06-06
  • 公开(公告)号:CN116377393A
  • 申请人:安徽赛福电子有限公司
摘要:本发明涉及金属化薄膜、镀膜机及制备工艺,包括:高分子聚合物基膜层;多组金属化层,相互间隔设置于高分子聚合物基膜层上,所述金属化层包括活动区、设置在活动区中部的加厚区以及翘边区,所述翘边区位于活动区的两端;留边部,设置于相邻两组的金属化层之间的间隔区域上,用于衔接两组相邻的金属化层,所述留边部上喷涂有屏蔽油,所述翘边区的厚度大于屏蔽油的厚度,以防止屏蔽油向活动区方向扩散,本发明通过挡板的翘边区孔在金属化薄膜活动区外侧增加翘边区,相当于在屏蔽油两侧筑起了堤坝,阻止了留边部上的屏蔽油向活动区内部扩散,防止金属化层被油污染,形成金属化膜报废和退货。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116377393 A (43)申请公布日 2023.07.04 (21)申请号 202310360440.7 (22)申请日 2023.04.06 (71)申请人 安徽赛福电子有限公司 地址 244000 安徽省铜陵市狮子山区栖凤 路1771号 (72)发明人 汤泽波 周峰 李俊 樊申松  程伟  (74)专利代理机构 合肥东信智谷知识产权代理 事务所(普通合伙) 34143 专利代理师 张国庆 (51)Int.Cl. C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 (54)发明名称 金属化薄膜、镀膜机及制备工艺 (57)摘要 本发明涉及金属化薄膜、镀膜机及制备工 艺,包括 :高分子聚合物基膜层;多组金属化层, 相互间隔设置于高分子聚合物基膜层上,所述金 属化层包括活动区、设置在活动区中部的加厚区 以及翘边区 ,所述翘边区位于活动区的两端;留 边部,设置于相邻两组的金属化层之间的间隔区 域上,用于衔接两组相邻的金属化层,所述留边 部上喷涂有屏蔽油,所述翘边区的厚度大于屏蔽 油的厚度,以防止屏蔽油向活动区方向扩散,本 发明通过挡板的翘边区孔在金属化薄膜活动区 外侧增加翘边区,相当于在屏蔽油两侧筑起了堤 坝,阻止了留边部上的屏蔽油向活动区内部扩 A 散,防止金属化层被油污染,形成金属化膜报废 3 和退货。 9

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