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一种真空环境激光烧蚀用透镜保护装置2025

2024-04-11 07:22:07 发布于四川 17
  • 申请专利号:CN202311330708.9
  • 公开(公告)日:2025-06-20
  • 公开(公告)号:CN117840575A
  • 申请人:中国人民解放军军事航天部队航天工程大学
摘要:本申请公开了一种真空环境激光烧蚀用透镜保护装置,包括屏蔽罩,所述屏蔽罩一端贴紧光阑,所述光阑靠近电极部,所述电极部与电源相连;所述屏蔽罩、所述光阑、所述电极部分别通过支撑部固定在位移台上;解决了真空环境脉冲激光烧蚀过程中的透镜保护问题,可以有效保护镜片不受等离子体的加热影响,延长镜片使用寿命;同时能够减少激光烧蚀产物对真空舱的污染;且不需要频繁更换镜片,不需要使用成本更高的适应材质镜片,能够有效降低使用成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117840575 A (43)申请公布日 2024.04.09 (21)申请号 202311330708.9 (22)申请日 2023.10.13 (71)申请人 中国人民解放军战略支援部队航天 工程大学 地址 101416 北京市怀柔区八一路1号 (72)发明人 王莹 高贺岩 洪延姬 叶继飞  王殿恺  (74)专利代理机构 北京元周律知识产权代理有 限公司 11540 专利代理师 史冬梅 (51)Int.Cl. B23K 26/06 (2014.01) B23K 26/046 (2014.01) B23K 26/70 (2014.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种真空环境激光烧蚀用透镜保护装置 (57)摘要 本申请公开了一种真空环境激光烧蚀用透 镜保护装置,包括屏蔽罩,所述屏蔽罩一端贴紧 光阑,所述光阑靠近电极部,所述电极部与电源 相连;所述屏蔽罩、所述光阑、所述电极部分别通 过支撑部固定在位移台上;解决了真空环境脉冲 激光烧蚀过程中的透镜保护问题,可以有效保护 镜片不受等离子体的加热影响,延长镜片使用寿 命;同时能够减少激光烧蚀产物对真空舱的污 染;且不需要频繁更换镜片,不需要使用成本更 高的适应材质镜片,能够有效降低使用成本。 A 5 7 5 0 4 8 7 1 1 N C CN 117840575 A

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