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掩膜板组件及蒸镀设备

2023-05-28 13:09:31 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310194805.3
  • 公开(公告)日:2025-04-01
  • 公开(公告)号:CN116162896A
  • 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司|||京东方科技集团股份有限公司
摘要:本申请实施例提供了一种掩膜板组件及蒸镀设备。该掩膜板组件包括:框架;掩膜条,设置在框架上,并位于框架朝向待蒸镀基板的一侧,掩膜条具有第一开口,第一开口在待蒸镀基板上的正投影与待蒸镀基板的待蒸镀区域重合;掩膜托盘,设置在框架上,并位于掩膜条朝向蒸镀源的一侧,掩膜托盘遮挡至少部分掩膜条,掩膜托盘具有第二开口,第二开口在待蒸镀基板上的正投影覆盖第一开口在待蒸镀基板上的正投影;其中:掩膜托盘至少朝向蒸镀源一侧的表面粗糙度大于掩膜条的表面粗糙度。本申请实施例能够降低沉积在掩膜板组件上的膜层从掩膜板组件上剥落的风险,提高掩膜板组件的使用寿命。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116162896 A (43)申请公布日 2023.05.26 (21)申请号 202310194805.3 (22)申请日 2023.02.27 (71)申请人 合肥鑫晟光电科技有限公司 地址 230012 安徽省合肥市新站区工业园 内 申请人 京东方科技集团股份有限公司 (72)发明人 李如 杨凯 潘晟恺 乔永康  徐阳  (74)专利代理机构 北京市立方律师事务所 11330 专利代理师 王存霞 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图4页 (54)发明名称 掩膜板组件及蒸镀设备 (57)摘要 本申请实施例提供了一种掩膜板组件及蒸 镀设备。该掩膜板组件包括:框架;掩膜条,设置 在框架上,并位于框架朝向待蒸镀基板的一侧, 掩膜条具有第一开口,第一开口在待蒸镀基板上 的正投影与待蒸镀基板的待蒸镀区域重合;掩膜 托盘,设置在框架上,并位于掩膜条朝向蒸镀源 的一侧,掩膜托盘遮挡至少部分掩膜条,掩膜托 盘具有第二开口,第二开口在待蒸镀基板上的正 投影覆盖第一开口在待蒸镀基板上的正投影;其 中:掩膜托盘至少朝向蒸镀源一侧的表面粗糙度 大于掩膜条的表面粗糙度。本申请实施例能够降 低沉积在掩膜板组件上的膜层从掩膜板组件上 A 剥落的风险,提高掩膜板组件的使用寿命。 6 9

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