纳米压印模具、制作方法及指纹识别芯片的制作工艺

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114624956 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202011438609.9 (22)申请日 2020.12.11 (71)申请人 格科微电子（上海）有限公司 地址 201203 上海市浦东新区张江盛夏路 560号2号楼11层 (72)发明人 杜柯　张超　 (51)Int.Cl. G03F 7/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 纳米压印模具、制作方法及指纹识别芯片的 制作工艺 (57)摘要 本发明提供一种纳米压印模具、制作方法及 指纹识别芯片的制作工艺，其中，所述纳米压印 模具的制作方法，包括：在半导体衬底上依次形 成多层厚度可控的半导体膜，并对其中至少一层 半导体膜进行高精度的图形化，以通过这些图形 化的半导体膜的组合，形成三维立体的所述纳米 压印模具。所述纳米压印模具的形状能够通过图 形化的半导体膜的精准控制，实现高精度可控的 形状。可用以匹配任意指纹识别芯片微镜头以及 其他CMOS图像传感器的微镜头。 A 6 5 9 4 2 6 4 1 1 N C CN 114624956 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种纳米压印模具的制作方法，其特征在于，包括： 在半导体衬底上依次形成多层厚度可控的半导体膜，并对其中至少