通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法2025
- 申请专利号:CN202310530441.1
- 公开(公告)日:2025-06-17
- 公开(公告)号:CN116732497A
- 申请人:ASMIP私人控股有限公司|||根特大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116732497 A (43)申请公布日 2023.09.12 (21)申请号 202310530441.1 C23C 16/40 (2006.01) C23C 16/515 (2006.01) (22)申请日 2018.02.14 H01L 21/02 (2006.01) (62)分案原申请数据 201880088965.7 2018.02.14 (71)申请人 ASM IP私人控股有限公司 地址 荷兰阿尔梅勒 申请人 根特大学 (72)发明人 M ·明乔夫 J ·登多文 C ·德塔韦尼尔 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 专利代理师 王冉 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/18 (2006.01) 权利要求书1页 说明书12页 附图3页 (54)发明名称 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的 方法 (57)摘要 公开了一种通过循环沉积工艺在衬底上沉 积含钌膜的方法。所述方法可以包含:使所述衬 底与包括金属有机前体的第一气相反应物接触, 所述金属有机前体包括选自由以下组成的群组 的金属:铂、铝、钛、铋
最新专利
- 一种光电器件加工用金属蒸镀设备公开日期:2025-07-04公开号:CN117488249A申请号:CN202311469280.6一种光电器件加工用金属蒸镀设备
- 发布时间:2024-02-04 07:49:580
- 申请号:CN202311469280.6
- 公开号:CN117488249A
- 一种喷涂保护装置、喷涂方法公开日期:2025-07-04公开号:CN116875972A申请号:CN202310861814.3一种喷涂保护装置、喷涂方法
- 发布时间:2023-10-16 07:24:530
- 申请号:CN202310861814.3
- 公开号:CN116875972A
- 一种阴极翅片式离子氮化炉公开日期:2025-07-04公开号:CN116590653A申请号:CN202310831353.5一种阴极翅片式离子氮化炉
- 发布时间:2023-08-17 07:13:410
- 申请号:CN202310831353.5
- 公开号:CN116590653A
- 一种铁基表面磷酸化氮化碳涂层及其制备方法公开日期:2025-07-04公开号:CN116426922A申请号:CN202310441787.4一种铁基表面磷酸化氮化碳涂层及其制备方法
- 发布时间:2023-07-16 07:26:570
- 申请号:CN202310441787.4
- 公开号:CN116426922A
- 一种衰减器加工方法及设备公开日期:2025-07-04公开号:CN116288240A申请号:CN202310230607.8一种衰减器加工方法及设备
- 发布时间:2023-06-27 09:39:370
- 申请号:CN202310230607.8
- 公开号:CN116288240A
- 一种高效的换热器用快速除油清洗剂公开日期:2025-07-04公开号:CN113416959A申请号:CN202110731497.4一种高效的换热器用快速除油清洗剂
- 发布时间:2023-06-23 08:16:240
- 申请号:CN202110731497.4
- 公开号:CN113416959A