1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 化学/冶金
发明

一种高光黑耐刮擦PMMA/ASA复合材料及其制备方法

2023-06-02 13:34:17 发布于四川 109
  • 申请专利号：CN202011462912.2
  • 公开（公告）日：2024-04-09
  • 公开（公告）号：CN112552614A
  • 申请人：武汉金发科技有限公司|||武汉金发科技企业技术中心有限公司
摘要：本发明提供一种高光黑耐刮擦PMMA/ASA复合材料及其制备方法，包括如下重量份的原料：SAN树脂：25‑60份、增韧剂：5‑15份、PMMA树脂：15‑35份、耐热剂：5‑15份、无机纳米粒子：1‑10份、助剂：1‑5份和着色剂：1‑5份。本发明针对PMMA/ASA材料的高亮黑，引入PMMA可以提高产品光泽，使其具有高光感，同时增加着色能力，通过加入有机着色复配溶剂可以使材料表面做到高亮黑，避免了炭黑引入导致材料光泽下降，利用无机二硫化钨纳米棒改善表面极性，降低表面摩擦系数，提高其耐刮擦性能，PMMA/ASA复合材料的工艺简单，能够解决其高光黑问题，避免材料喷涂改善环境污染问题，适于大规模量产。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112552614 A (43)申请公布日 2021.03.26 (21)申请号 202011462912.2 C08L 51/04 (2006.01) C08K 3/30 (2006.01) (22)申请日 2020.12.14 C08K 7/00 (2006.01) (71)申请人 武汉金发科技有限公司 C08K 5/00 (2006.01) 地址 430056 湖北省武汉市武汉经济技术 C08K 13/04 (2006.01) 开发区博学路3号 申请人 武汉金发科技企业技术中心有限公 司 (72)发明人 丁鹏　袁刚　敬新柯　余启生　 何浏炜　曾赛　祝润生　林涛　 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 代理人 颜希文　郝传鑫 (51)Int.Cl. C08L 25/12 (2006.01) C08L 33/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书11页 (54)发明名称

最新专利

相关专利