KrF负性光刻胶及其制备方法、应用

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113960881 A (43)申请公布日 2022.01.21 (21)申请号 202111417731.2 (22)申请日 2021.11.26 (71)申请人 潍坊星泰克微电子材料有限公司 地址 261000 山东省潍坊市高新技术开发 区清池街道府东社区高二路417号2号 楼1-2层 (72)发明人 周元基　 (74)专利代理机构 北京超凡宏宇专利代理事务 所 (特殊普通合伙) 11463 代理人 张金铭 (51) Int.C l. G03F 7/038 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 (54)发明名称 KrF负性光刻胶及其制备方法、应用 (57)摘要 本发明提供了一种KrF负性光刻胶及其制备 方法、应用，涉及光刻胶制备的技术领域，包括如 下组分：聚对羟基苯乙烯共聚物、酸性催化剂、光 致去活剂以及任选的溶剂，其中，聚对羟基苯乙 烯共聚物包括含保护基团的聚对羟基苯乙烯共 聚物，光致去活剂包括阴离子引发剂。本发明的 KrF负性光刻胶，其在非曝光区时，酸性催化剂催 化聚对羟基苯乙烯共聚物的保护基团脱落，而在 曝光区经248nm波长紫外光曝光后，阴离子引发 剂产生的化合物会使酸性催化剂失活，不再催化 去保护基团。本发明解决了聚对羟基苯乙烯树脂 在交联后难以湿法去胶的技术问题，达到了可以 A 采用湿法去胶，通过常温浸泡即可