发明

一种旋转涂布方法

2023-05-12 12:09:45 发布于四川 4
  • 申请专利号:CN202011445659.X
  • 公开(公告)日:2025-04-15
  • 公开(公告)号:CN114602760A
  • 申请人:比亚迪半导体股份有限公司
摘要:本发明提供了一种旋转涂布方法,所述旋转涂布方法包括:提供基底;在所述基底上施加旋涂剂;对所述旋涂剂进行旋转涂布,以在所述基底的表面形成旋涂膜层;执行第一振荡步骤;执行烘烤步骤,并且至少在所述烘烤步骤的部分时间内执行第二振荡步骤,以固化所述旋涂膜层。本发明通过增加所述第一振荡步骤和第二振荡步骤可以改善旋涂膜层厚度的均匀性。所述旋涂膜层的厚度均匀性从7.02%提高至3%以内,同时所述方法还可以节约旋涂剂使用成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114602760 A (43)申请公布日 2022.06.10 (21)申请号 202011445659.X (22)申请日 2020.12.08 (71)申请人 比亚迪半导体股份有限公司 地址 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌 街道延安路1号 (72)发明人 林秀岩  (74)专利代理机构 深圳众鼎专利商标代理事务 所(普通合伙) 44325 专利代理师 姚章国 (51)Int.Cl. B05D 1/00 (2006.01) B05D 3/00 (2006.01) B05D 3/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 一种旋转涂布方法 (57)摘要 本发明提供了一种旋转涂布方法,所述旋转 涂布方法包括:提供基底;在所述基底上施加旋 涂剂;对所述旋涂剂进行旋转涂布,以在所述基 底的表面形成旋涂膜层;执行第一振荡步骤;执 行烘烤步骤,并且至少在所述烘烤步骤的部分时 间内执行第二振荡步骤,以固化所述旋涂膜层。 本发明通过增加所述第一振荡步骤和第二振荡 步骤可以改善旋涂膜层厚度的均匀性。所述旋涂 膜层的厚度均匀性从7.02%提高至3%以内,同 时所述方法还可以节约旋涂剂使用成本。 A 0 6 7 2 0 6 4 1 1 N C CN 114602760 A 权 利 要 求 书

最新专利