一种旋转涂布方法
- 申请专利号:CN202011445659.X
- 公开(公告)日:2025-04-15
- 公开(公告)号:CN114602760A
- 申请人:比亚迪半导体股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114602760 A (43)申请公布日 2022.06.10 (21)申请号 202011445659.X (22)申请日 2020.12.08 (71)申请人 比亚迪半导体股份有限公司 地址 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌 街道延安路1号 (72)发明人 林秀岩 (74)专利代理机构 深圳众鼎专利商标代理事务 所(普通合伙) 44325 专利代理师 姚章国 (51)Int.Cl. B05D 1/00 (2006.01) B05D 3/00 (2006.01) B05D 3/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 一种旋转涂布方法 (57)摘要 本发明提供了一种旋转涂布方法,所述旋转 涂布方法包括:提供基底;在所述基底上施加旋 涂剂;对所述旋涂剂进行旋转涂布,以在所述基 底的表面形成旋涂膜层;执行第一振荡步骤;执 行烘烤步骤,并且至少在所述烘烤步骤的部分时 间内执行第二振荡步骤,以固化所述旋涂膜层。 本发明通过增加所述第一振荡步骤和第二振荡 步骤可以改善旋涂膜层厚度的均匀性。所述旋涂 膜层的厚度均匀性从7.02%提高至3%以内,同 时所述方法还可以节约旋涂剂使用成本。 A 0 6 7 2 0 6 4 1 1 N C CN 114602760 A 权 利 要 求 书
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