1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
PCT发明

图案形成装置调节系统以及方法

2023-05-12 11:28:42 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080071627.X
  • 公开（公告）日：2025-07-15
  • 公开（公告）号：CN114556222A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：一种掩模版调节系统，包括：支撑结构，该支撑结构用于支撑掩模版；气体供应模块，该气体供应模块用于提供邻近于掩模版的气流；以及偏压模块，该偏压模块用于控制掩模版的电势。偏压模块包括第一电极、第二电极和电源。第一电极和第二电极每一个与掩模版间隔开，并且面向掩模版以与掩模版至少部分地重叠。电源被布置成将第一电极保持在正电压并且将第二电极保持在负电压，这些电压使得掩模版的电压为负。第二电极被设置成使得在使用中，第二电极不与掩模版的图像形成部分重叠。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114556222 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202080071627.X (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2020.09.14 专利代理师 胡良均 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 19203978.2 2019.10.18 EP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.04.12 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/075611 2020.09.14 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/073817 EN 2021.04.22 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 M ·A ·范德柯克霍夫　 F ·M ·J ·H ·范德维特林　 A ·M ·雅库尼恩　 权利要求书2页 说明书14页 附图5页 (54)发明名称 图案形成装置调节系统以及方法 (57)摘要

最新专利

相关专利