一种提高镀膜层附着力的工艺
- 申请专利号:CN202111597745.7
- 公开(公告)日:2023-03-24
- 公开(公告)号:CN114260155A
- 申请人:深圳市山禾乐科技开发有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114260155 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202111597745.7 B05C 15/00 (2006.01) B05C 13/02 (2006.01) (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 深圳市山禾乐科技开发有限公司 地址 518000 广东省深圳市龙华新区观澜 街道凹背社区大富工业区11号鹏龙蟠 高科技园C栋三楼南 (72)发明人 彭杰真 (74)专利代理机构 深圳市远航专利商标事务所 (普通合伙) 44276 代理人 田志远 袁浩华 (51)Int.Cl. B05D 1/00 (2006.01) B05D 1/36 (2006.01) B05D 7/02 (2006.01) B05C 9/06 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图5页 (54)发明名称 一种提高镀膜层附着力的工艺 (57)摘要 本发明公开了一种提高镀膜层附着力的工 艺,属于气相沉积技术领域,目前的派瑞林镀膜 层前期偶联剂附着不均匀,且气相沉积时镀膜层 厚度不均匀,导致镀膜层附着力低,容易脱落,本 方案包括如下步骤:将工件进行清洗;将工件放 入烘箱中,烘干清理工件表面的吸附的水汽;将 工件
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