发明

一种量子点光刻胶及其制备方法和应用2024

2024-06-01 07:20:49 发布于四川 58
  • 申请专利号:CN202311824151.4
  • 公开(公告)日:2024-05-24
  • 公开(公告)号:CN118068645A
  • 申请人:镭昱光电科技(苏州)有限公司
摘要:本发明提供了一种量子点光刻胶及其制备方法和应用;所述量子点光刻胶至少包括量子点、改性剂和光刻胶;其中,以有机金属锌作为改性剂,至少部分改性剂对光刻胶中的有机聚合物进行化学修饰,形成有机聚合物‑改性剂‑量子点复合物。基于有机聚合物‑改性剂‑量子点复合物的形成,进而得到具有微纳结构的量子点光刻胶薄膜,一方面,能够增强量子点膜层的高温使用的稳定性,大大地延长了荧光保有率的时间和有效光转换效率;另一方面,使采用量子点光刻胶薄膜制备得到的显示器件具有更高的分辨率和精度,可以制造出更精细的结构和图案,从而实现制造更高性能的微电子器件。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118068645 A (43)申请公布日 2024.05.24 (21)申请号 202311824151.4 (22)申请日 2023.12.27 (71)申请人 镭昱光电科技(苏州)有限公司 地址 215000 江苏省苏州市工业园区新平 街388号21幢2层01-04&12-14单元 (72)发明人 张超 徐苏言 仉旭 庄永漳  (74)专利代理机构 南京利丰知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 32256 专利代理师 叶丙静 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) 权利要求书2页 说明书12页 (54)发明名称 一种量子点光刻胶及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明提供了一种量子点光刻胶及其制备 方法和应用;所述量子点光刻胶至少包括量子 点、改性剂和光刻胶;其中,以有机金属锌作为改 性剂,至少部分改性剂对光刻胶中的有机聚合物 进行化学修饰,形成有机聚合物‑改性剂‑量子点 复合物。基于有机聚合物‑改性剂‑量子点复合物 的形成,进而得到具有微纳结构的量子点光刻胶 薄膜,一方面,能够增强量子点膜层的高温使用 的稳定性,大大地延长了荧光保有率的时间和有 效光转换效率;另一方面,使采用量子点光刻胶 薄膜制备得到的显示器件具有更高的分辨率和 精度,可以制造出更精细的结构和图案,从而实 A 现制造更高性能的微电子器件。 5 4 6 8 6 0 8 1 1 N C CN 118