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PCT发明

清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法

2023-06-02 13:54:41 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980055634.8
  • 公开（公告）日：2025-03-11
  • 公开（公告）号：CN112602175A
  • 申请人：三菱化学株式会社
摘要：本发明涉及清洗液，其包含成分(A)：下述通式(1)所表示的化合物、成分(B)：烷基胺、成分(C)：多元羧酸、成分(D)：抗坏血酸，其中，成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1～15。(所述通式(1)中，R1、R2、R3分别与说明书中所记载的定义相同。)。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112602175 A (43)申请公布日 2021.04.02 (21)申请号 201980055634.8 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 (22)申请日 2019.08.27 代理人 孟伟青　褚瑶杨 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2018-161077 2018.08.30 JP H01L 21/304 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C11D 7/22 (2006.01) 2021.02.24 C11D 7/26 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C11D 7/32 (2006.01) PCT/JP2019/033484 2019.08.27 C11D 17/08 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/045414 JA 2

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