清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法
- 申请专利号:CN201980055634.8
- 公开(公告)日:2025-03-11
- 公开(公告)号:CN112602175A
- 申请人:三菱化学株式会社
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112602175 A (43)申请公布日 2021.04.02 (21)申请号 201980055634.8 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 (22)申请日 2019.08.27 代理人 孟伟青 褚瑶杨 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2018-161077 2018.08.30 JP H01L 21/304 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C11D 7/22 (2006.01) 2021.02.24 C11D 7/26 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C11D 7/32 (2006.01) PCT/JP2019/033484 2019.08.27 C11D 17/08 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/045414 JA 2
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