组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116500858 A (43)申请公布日 2023.07.28 (21)申请号 202210054445.2 (22)申请日 2022.01.18 (71)申请人 上海艾深斯科技有限公司 地址 201600 上海市松江区佘山镇吉业路 399号 (72)发明人 郑学刚　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 专利代理师 陈晰 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/075 (2006.01) G03F 7/09 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01) H01L 23/29 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图1页 (54)发明名称 组合的光抗蚀剂和Si基硬掩模的涂层 (57)摘要 本发明涉及用于双层光抗蚀剂涂层的光抗 蚀剂涂层组合物，作为组合的光抗蚀剂(PR)和Si 基硬掩模(SiHM) ，通过涂覆这样的组合物来涂覆 微电子器件的方法，和通过涂覆这样的组合物来 形成图案化器件的方法。 A 8 5 8 0 0 5 6 1 1 N C CN 116500858 A 权　利　要　求　书 1/2 页 1.双层光抗蚀剂涂层的光抗蚀剂涂层组合物，包含：