调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114675497 A (43)申请公布日 2022.06.28 (21)申请号 202011565072.2 (22)申请日 2020.12.25 (71)申请人 上海微电子装备（集团）股份有限公 司 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525 号 (72)发明人 程于水　徐荣伟　庄亚政　孙建超　 (74)专利代理机构 上海思捷知识产权代理有限 公司 31295 专利代理师 王宏婧 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G03F 9/00 (2006.01) 权利要求书3页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量 方法 (57)摘要 本发明提供一种调焦调平装置、光刻机系统 以及离焦量的测量方法，其中，所述光照单元提 供的检测光斑经所述投影单元投影至一待测面 上，并经待测面反射形成反射光斑并投射至所述 探测单元。所述探测狭缝包括透光区和反射区。 反射光斑经透光区形成第一光斑，所述第一探测 器获取第一光斑的功率；反射光斑经反射区形成 第二光斑，所述第二探测器获取第二光斑的功 率。所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率 和所述第二光斑的功率计算出所述待测面的离 焦量。因此，本发明通过设置透光区和反射区，以 A 分别获取第一光斑和第二光斑的功率，进而计算 7 出离焦量，避免摆动扫描反射镜，减少噪声干扰， 9 4 5 提