发明

HMDS处理机构及处理工艺

2023-06-07 22:39:09 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202211484143.5
  • 公开(公告)日:2025-03-28
  • 公开(公告)号:CN115772653A
  • 申请人:常州瑞择微电子科技有限公司
摘要:本发明涉及一种HMDS处理机构及处理工艺,HMDS处理机构包括真空腔室和托起机构,所述真空腔室的具有开口侧,所述开口侧配置有用于封闭或打开其的真空闸门;所述托起机构具有用于共同托起被送至所述真空腔室内的掩模板的至少三个指钩,所述指钩具有用于与所述掩模板线接触以支撑所述掩模板的倾斜面和/或弧形面。本发明的HMDS处理机构可以以线接触的方式转移掩模板,以避免掩模板被损伤或污染。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115772653 A (43)申请公布日 2023.03.10 (21)申请号 202211484143.5 (22)申请日 2022.11.24 (71)申请人 常州瑞择微电子科技有限公司 地址 213000 江苏省常州市新北区长江中 路25号3号楼一楼西 (72)发明人 徐飞 王玲  (74)专利代理机构 常州市英诺创信专利代理事 务所(普通合伙) 32258 专利代理师 张秋月 (51)Int.Cl. C23C 14/50 (2006.01) B65G 47/90 (2006.01) B65G 47/74 (2006.01) B05D 1/00 (2006.01) C23C 14/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图6页 (54)发明名称 HDMS处理机构及处理工艺 (57)摘要 本发明涉及一种HMDS处理机构及处理工艺, HMDS处理机构包括真空腔室和托起机构,所述真 空腔室的具有开口侧,所述开口侧配置有用于封 闭或打开其的真空闸门;所述托起机构具有用于 共同托起被送至所述真空腔室内的掩模板的至 少三个指钩,所述指钩具有用于与所述掩模板线 接触以支撑所述掩模板的倾斜面和/或弧形面。 本发明的HMDS处理机构可以以线接触的方式转 移掩模板,以避免掩模板被损伤或污染。 A 3 5 6 2 7 7 5 1 1 N

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