一种超透镜、超透镜系统及制造方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117518310 A (43)申请公布日 2024.02.06 (21)申请号 202311647150.7 (22)申请日 2023.11.30 (71)申请人 武汉邮电科学研究院有限公司 地址 430074 湖北省武汉市洪山区邮科院 路88号 申请人 武汉光谷信息光电子创新中心有限 公司 (72)发明人 冯家豪　陶金　吴冕　李臻　严杰　 肖希　 (74)专利代理机构 武汉智权专利代理事务所 (特殊普通合伙) 42225 专利代理师 陈锐 (51)Int.Cl. G02B 3/00 (2006.01) G02B 27/09 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种超透镜、超透镜系统及制造方法 (57)摘要 一种超透镜、超透镜系统及制造方法，涉及 微纳光学器件及其制造技术领域，超透镜包括： 基底；纳米柱阵列，其设置在基底上，纳米柱阵列 包括多种不同高度的纳米柱，纳米柱被配置为： 基于设定的光场相位分布函数排列，且基底表面 不同位置的纳米柱的高度基于相位和高度的对 应关系确定。本发明可通过不同高度纳米柱实现 线性相移调控，并减少因制造误差带来的相移误 差。 A 0 1 3 8 1 5 7 1 1 N C CN 117518310 A 权　利　要