发明

一种基于应变调控的锗硅耦合量子阱电致折射率调制器

2023-07-28 07:16:47 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310400677.3
  • 公开(公告)日:2025-07-08
  • 公开(公告)号:CN116482881A
  • 申请人:华中科技大学
摘要:本发明提出了一种基于应变调控的锗硅耦合量子阱电致折射率调制器,包括衬底层、缓冲层、下隔离层、耦合量子阱区、上隔离层、盖帽层和N电极,绝缘介质层、右侧P电极、左侧P电极,还包括两个刻蚀窗口、脊形波导结构和悬空微桥结构,其中,衬底层具有悬空区域;耦合量子阱区包括多对五层耦合量子阱;两个刻蚀窗口对于脊形波导结构呈轴对称分布,两个刻蚀窗口之间的缓冲层、脊形波导结构、N电极、右侧P电极和左侧P电极形成悬空微桥结构。综上,本发明能够将量子阱区光吸收带边及电致折射率变化峰值移动至主流光通信C波段处,同时实现更大的电致折射率变化,使得电致折射率调制器调制效率更高且更具有实用性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116482881 A (43)申请公布日 2023.07.25 (21)申请号 202310400677.3 (22)申请日 2023.04.14 (71)申请人 华中科技大学 地址 430000 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 孙军强 江佩璘  (74)专利代理机构 武汉红观专利代理事务所 (普通合伙) 42247 专利代理师 陈凯 (51)Int.Cl. G02F 1/017 (2006.01) G02F 1/015 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图5页 (54)发明名称 一种基于应变调控的锗硅耦合量子阱电致 折射率调制器 (57)摘要 本发明提出了一种基于应变调控的锗硅耦 合量子阱电致折射率调制器,包括衬底层、缓冲 层、下隔离层、耦合量子阱区、上隔离层、盖帽层 和N电极,绝缘介质层、右侧P电极、左侧P电极,还 包括两个刻蚀窗口、脊形波导结构和悬空微桥结 构,其中,衬底层具有悬空区域;耦合量子阱区包 括多对五层耦合量子阱 ;两个刻蚀窗口对于脊形 波导结构呈轴对称分布,两个刻蚀窗口之间的缓 冲层、脊形波导结构、N电极、右侧P电极和左侧P 电极形成悬空微桥结构。综上,本发明能够将量 子阱区光吸收带边及电致折射率变化峰值移动 A 至主流光通信C波段处,同时实现更大的电致折 1 射率变化,使得电致折射率调制器调制效率更高 8 8 2 且更具有实用性。 8 4

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