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发明

一种硒氧化铋原位热氧化物顶栅场效应晶体管及制备方法

2023-07-05 07:04:32 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202010516637.1
  • 公开（公告）日：2024-12-13
  • 公开（公告）号：CN113782593A
  • 申请人：北京大学
摘要：本发明公开了一种硒氧化铋原位热氧化物顶栅场效应晶体管及其制备方法。该方法将二维Bi2O2Se晶体进行原位氧化，使其表层氧化转化为一定厚度的栅氧化物Bi2SeO5。随后利用氢氟酸选择性刻蚀Bi2SeO5，暴露出源漏接触区域的Bi2O2Se。随后在栅氧化物区域沉积金属栅电极，再沉积金属源漏电极而得。本发明工艺流程简单，操作容易，成本低，器件性能优异，该硒氧化铋原位氧化物顶栅场效应晶体管在300K下的场效应迁移率可达300cm2V‑1s‑1，亚阈值摆幅可低至70mV/dec。本发明有望应用于大规模集成电路等领域；为Bi2O2Se半导体在逻辑电路、传感器和集成电路的应用奠定了基础。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113782593 A (43)申请公布日 2021.12.10 (21)申请号 202010516637.1 H01L 21/34 (2006.01) (22)申请日 2020.06.09 (71)申请人 北京大学 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号北 京大学化学院 (72)发明人 彭海琳　李天然　涂腾　 (74)专利代理机构 北京纪凯知识产权代理有限 公司 11245 代理人 关畅 (51)Int.Cl. H01L 29/24 (2006.01) H01L 29/51 (2006.01) H01L 29/78 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/443 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图8页 (54)发明名称 一种硒氧化铋原位热氧化物顶栅场效应晶 体管及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种硒氧化铋原位热氧化物 顶栅场效应晶体管及其制备方法。该方法将二维 Bi O Se晶体进行原位氧化，使其表层氧化转化 2 2 为一定厚度的栅氧化物Bi SeO 。随后利用氢氟 2 5 酸选择性刻蚀Bi SeO ，暴露出源漏接触区域的

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