发明

一种磁场传感器和制作工艺方法2024

2024-04-21 07:53:44 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN201811020543.4
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN108975261A
  • 申请人:黑龙江大学
摘要:本发明公开了一种磁场传感器及其制作工艺,所述传感器包括第一硅片(1)和第二硅片(2),在所述第一硅片(1)上设置有一个呈立体结构的硅磁敏三极管,在所述第一硅片(1)和第二硅片(2)上分别设置一个聚/导磁微结构(4),其中,所述聚/导磁微结构(4)使得非磁敏感方向的磁场聚集和传导至硅磁敏三极管的磁敏感方向,以进行测量。本发明所述的磁场传感器,结构简单,体积小,集成化程度高,其制作工艺操作方便,易于实现,适合大规模工业应用。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 108975261 A (43)申请公布日 2018.12.11 (21)申请号 201811020543.4 (22)申请日 2018.09.03 (71)申请人 黑龙江大学 地址 150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学 府路74号 (72)发明人 赵晓锋 宋灿 温殿忠 张洪泉  (74)专利代理机构 北京康思博达知识产权代理 事务所(普通合伙) 11426 代理人 刘冬梅 路永斌 (51)Int.Cl. B81B 1/00(2006.01) B81B 7/02(2006.01) B81C 1/00(2006.01) G01R 33/00(2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图8页 (54)发明名称 一种磁场传感器和制作工艺方法 (57)摘要 本发明公开了一种磁场传感器及其制作工 艺,所述传感器包括第一硅片(1)和第二硅片 (2),在所述第一硅片(1)上设置有一个呈立体结 构的硅磁敏三极管,在所述第一硅片(1)和第二 硅片(2)上分别设置一个聚/导磁微结构(4),其 中,所述聚/导磁微结构(4)使得非磁敏感方向的 磁场聚集和传导至硅磁敏三极管的磁敏感方向, 以进行测量。本发明所述的磁场传感器,结构简 单,体积小,集成化程度高,其制作工艺操作方 便,易于实现,适合大规模工业应用。 A

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