飞秒激光辅助刻蚀的非线性光学晶体微纳结构加工方法2023

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117300369 A (43)申请公布日 2023.12.29 (21)申请号 202311390376.3 (22)申请日 2023.10.25 (71)申请人 南京大学 地址 210008 江苏省南京市鼓楼区汉口路 22号 (72)发明人 王天新　张勇　 (74)专利代理机构 南京苏高专利商标事务所 (普通合伙) 32204 专利代理师 冯艳芬 (51)Int.Cl. B23K 26/362 (2014.01) B23K 26/00 (2014.01) B23K 26/70 (2014.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 飞秒激光辅助刻蚀的非线性光学晶体微纳 结构加工方法 (57)摘要 本发明公开了一种飞秒激光辅助刻蚀的非 线性光学晶体微纳结构加工方法，包括如下步 骤：(1)获取非线性光学晶体的损伤阈值，并测量 在低于所述损伤阈值情况下完成不同深度的非 线性光学晶体改性时的激光能量，形成加工深 度‑激光能量对应关系；(2)按照所述加工深度‑ 激光能量对应关系，在非线性光学晶体内部进行 直写，形成所需三维微纳结构的局部改性区域； (3)对非线性光学晶体进行机械抛光，减薄非线 性光学晶体，直至非线性光学晶体内部局部改性 区域的刻蚀起点露置于表面；(4)对非线性光学 A 晶体的局部改性区域进行化学刻蚀，获得所需具 9 有三维微纳结构的非线性光学晶体。本发明刻蚀