一种光刻机硅片传控方法及光刻机2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117170195 A (43)申请公布日 2023.12.05 (21)申请号 202311246496.6 (22)申请日 2023.09.26 (71)申请人 新毅东（上海）科技有限公司 地址 201700 上海市青浦区华新镇北青公 路3888号20幢 (72)发明人 张琪　符友银　 (74)专利代理机构 苏州友佳知识产权代理事务 所(普通合伙) 32351 专利代理师 储振 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种光刻机硅片传控方法及光刻机 (57)摘要 本发明提供了一种光刻机硅片传控方法及 光刻机，该方法包括：获取光刻机所包含不同工 作位分别对应的作业动作与作业顺序，基于作业 动作实时监测不同工作位对应的作业状态，作业 状态包括忙状态与闲状态；当监测到工作位对应 的作业状态为闲状态时，根据作业顺序从上一个 工作位将执行完上一个工作位对应作业动作的 硅片传输至闲状态对应的工作位，以执行闲状态 对应的工作位对应作业动作，并将闲状态对应的 工作位的作业状态切换为忙状态，以并行对多个 硅片进行传控；其中，工作位包括机械手、预对准 位以及工作台。通过本发明，保证了光刻机中硅 A 片的传控效率，并进一步保证了光刻机的产能。 5 9 1 0 7 1 7 1 1 N C CN 117170195 A