实用新型
适用于芯片用多晶硅生产的氢气过滤器2024
2024-07-06 14:02:04
发布于四川
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- 申请专利号:CN202421313029.0
- 公开(公告)日:2024-07-05
- 公开(公告)号:CN221267506U
- 申请人:内蒙古大全半导体有限公司
摘要:本实用新型公开了一种适用于芯片用多晶硅生产的氢气过滤器,其包括低硫低碳的S31603材质的过滤器筒体、上封头和下封头,过滤器筒体的顶部与所述上封头通过法兰密封固定连接,所述过滤器筒体的底部与所述下封头密封固定连接;所述过滤器筒体上设有进气口和排气口;所述进气口设有进气阀门;所述排气口设有排气阀门;所述过滤器筒体内设有聚四氟乙烯滤芯,所述聚四氟乙烯滤芯的出气口端通过弯管与排气口连接;聚四氟乙烯滤芯的过滤精度不低于5μm。本实用新型过滤器能够满足芯片用多晶硅生产原料氢气过滤精度要求,能够保证芯片用多晶硅生产过程中氢气的纯净度,使芯片用多晶硅能够高效、稳定、大规模生产。
专利内容
本实用新型公开了一种适用于芯片用多晶硅生产的氢气过滤器,其包括低硫低碳的S31603材质的过滤器筒体、上封头和下封头,过滤器筒体的顶部与所述上封头通过法兰密封固定连接,所述过滤器筒体的底部与所述下封头密封固定连接;所述过滤器筒体上设有进气口和排气口;所述进气口设有进气阀门;所述排气口设有排气阀门;所述过滤器筒体内设有聚四氟乙烯滤芯,所述聚四氟乙烯滤芯的出气口端通过弯管与排气口连接;聚四氟乙烯滤芯的过滤精度不低于5μm。本实用新型过滤器能够满足芯片用多晶硅生产原料氢气过滤精度要求,能够保证芯片用多晶硅生产过程中氢气的纯净度,使芯片用多晶硅能够高效、稳定、大规模生产。B01D46/54(2006.01)