发明

一种便于清洗的核素合成热室及其清洗方法2024

2024-03-31 07:42:11 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311833212.3
  • 公开(公告)日:2024-03-29
  • 公开(公告)号:CN117790029A
  • 申请人:徐州华益制药有限公司
摘要:本发明公开了一种便于清洗的核素合成热室及其清洗方法,包括:合成室,设置于合成室顶部排气机构,以及设置于合成室内侧的清洗机构,合成室包括:合成腔体,设置于合成腔体内部的隔板,以及设置于隔板底部的超声波清洗机;超声波清洗机设置有若干个,且均匀固定连接于隔板底部,合成腔体顶部固定连接有激光三维扫描仪;排气机构包括:储气腔体,设置于储气腔体一侧的主体管道,以及设置于储气腔体内部的输气组件;主体管道用于将储气腔体内的气体输送至合成室内,排净合成室内的残留气体;清洗机构主要用于对合成室输送清洗液对合成室进行清洗;通过氮气与超声波的结合提高了对合成室的清洗程度,同时减少了毒害气体的残留。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117790029 A (43)申请公布日 2024.03.29 (21)申请号 202311833212.3 (22)申请日 2023.12.28 (71)申请人 徐州华益制药有限公司 地址 221300 江苏省徐州市高新技术产业 开发区富民路16号 (72)发明人 张思伟  (74)专利代理机构 苏州博格华瑞知识产权代理 事务所(普通合伙) 32558 专利代理师 丁浩秋 (51)Int.Cl. G21F 9/00 (2006.01) B08B 9/08 (2006.01) B08B 3/08 (2006.01) B08B 3/12 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种便于清洗的核素合成热室及其清洗方 法 (57)摘要 本发明公开了一种便于清洗的核素合成热 室及其清洗方法,包括:合成室,设置于合成室顶 部排气机构,以及设置于合成室内侧的清洗机 构,合成室包括:合成腔体,设置于合成腔体内部 的隔板,以及设置于隔板底部的超声波清洗机; 超声波清洗机设置有若干个,且均匀固定连接于 隔板底部,合成腔体顶部固定连接有激光三维扫 描仪;排气机构包括:储气腔体,设置于储气腔体 一侧的主体管道,以及设置于储气腔体内部的输 气组件;主体管道用于将储气腔体内的气体输送 至合成室内,排净合成室内的残留气体;清洗机 A 构主要用于对合成室输送清洗液对合成室进行

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