发明

一种MEMS六合一单片集成传感器及其制作方法

2023-08-25 07:26:09 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310499321.X
  • 公开(公告)日:2023-08-22
  • 公开(公告)号:CN116621114A
  • 申请人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
摘要:本发明提供一种基于MEMS技术的六合一单片集成传感器的制作方法,其包括在硅片上沉积隔离层,利用多晶硅制作牺牲层,沉积低应力氮化硅作为结构层和敏感膜片,在敏感膜片上制作敏感器件,使得XeF2气体透过敏感膜片上的腐蚀释放孔对牺牲层进行腐蚀,停止腐蚀后封堵所有的腐蚀释放孔。本发明的六合一单片集成传感器在单个硅片上集成了压力、加速度、气体、湿度、温度和麦克风传感器的功能,可以应用于复杂的场景如应急救援和公共安全等,从而提高作业效率;并且采用以上牺牲层和腐蚀的材料使得该集成传感器的成品率达到了一个较高的水平,制作成本也会较大幅度地降低,而且可与IC兼容。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116621114 A (43)申请公布日 2023.08.22 (21)申请号 202310499321.X (22)申请日 2023.05.04 (71)申请人 中国科学院上海微系统与信息技术 研究所 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号 (72)发明人 陶虎 李晓辉 秦楠  (74)专利代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 专利代理师 杨怡清 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 7/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图9页 (54)发明名称 一种MEMS六合一单片集成传感器及其制作 方法 (57)摘要 本发明提供一种基于MEMS技术的六合一单 片集成传感器的制作方法,其包括在硅片上沉积 隔离层,利用多晶硅制作牺牲层,沉积低应力氮 化硅作为结构层和敏感膜片,在敏感膜片上制作 敏感器件,使得XeF 气体透过敏感膜片上的腐蚀 2 释放孔对牺牲层进行腐蚀,停止腐蚀后封堵所有 的腐蚀释放孔。本发明的六合一单片集成传感器 在单个硅片上集成了压力、加速度、气体、湿度、 温度和麦克风传感器的功能,可以应用于复杂的 场景如应急救援和公共安全等,从而提高作业效 率;并且采用以上牺牲层和腐蚀的材料使得该集 A 成传感器的成品率达到了一个较高的水平,制作 4 成本也会较大幅度地降低,而且可与IC兼容。 1 1

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